Agilent Silicon Wafer Surface Metals Characterization by Vapor Phase Decomposition Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (VPD-ICP-MS)
该应用说明介绍了一种使用ICP-MS测量硅片表面金属污染的方法,该方法将VPD与ICP-MS相结合。
厂商: 安捷伦
文件类型: PDF
文件大小: 113 KB
文件校验: BDA5A457F88F3511F47C3F398BDCC423
上传时间: 2012-07-02 23:50:00
下载统计: 440