Agilent Technologies Analysis of Impurities in Semiconductor Grade Sulfuric Acid using the Agilent 7500cs ICP-MS

更新: 28 September, 2023

本文演示了新开发的高灵敏度反应池电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）在半导体级硫酸中无机杂质测定中的适用性。使用具有高灵敏度的八极反应系统（ORS）版本的Agilent 7500cs ICP-MS，分析了半导体工业所需的硫酸中的所有金属。增强的ORS消除了所有干扰K、Ca、Ti、Cr、Fe、Co、Ni、Cu和Zn等元素测量的等离子体和基质多原子。此外，所有分析物都可以在高等离子体功率下测量，以促进等离子体中硫酸的完全分解。这导致了高信号稳定性和例行维护频率的降低。样品制备是简单的10倍稀释，然后直接分析，从而显著降低了蒸发基质消除技术常遇到的样品污染的可能性。

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MD5: 5C7024A646088498EDD8954395C869AD

发布时间: 02 July, 2012

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