Agilent Determination of Trace Impurities in Copper by Axial ICP-OES Application Note

该文档介绍了一种通过轴向观察的顺序ICP-OES来测定高纯铜中的痕量杂质的方法,该方法具有高灵敏度和准确性。


品牌
安捷伦
文件格式
PDF
发布时间
2012年6月12日
更新时间
2023年10月1日
MD5 校验值
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