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介绍了三种用于微米和亚微米尺度器件的快速原型制作工具。这些工具代表了制造PEMS（即印刷微电子机械系统）的方法，因为它们利用了纳米晶材料的新型特性及其与高能束的相互作用。使用UV接触掩模光刻技术直接在玻璃和聚酰亚胺表面上对金属纳米晶进行图案化，而不需要真空或蚀刻工艺或使用光刻胶层。直接电子束光刻技术用于在石英玻璃和聚酰亚胺表面上直接生成纳米孔阵列。