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更新: 29 September, 2023
本文档介绍了一种用于半导体制造过程中的流体测量设备。该设备适用于各种工艺气体，并在正常工作条件下使用，不会引发火灾或爆炸。具有高压和低压两种规格，最大流量分别为200L/min和100L/min。接口为1/4和3/8，使用温度范围为-5℃至40℃，保存温度范围为-5℃至50℃。关于材料和表面处理方面，该设备采用了耐腐蚀材料和特殊的表面处理技术，确保高品质和超净化。
文件格式: PDF
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MD5: 6966079F133EA2855669EA4223A77682
发布时间: 21 February, 2012
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连接: Model XR67 Pressure Regulator (For medium flow rate) 说明书 PDF