Agilent Silicon Wafer Surface Metals Characterization by Vapor Phase Decomposition Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (VPD-ICP-MS)
该应用说明介绍了一种使用ICP-MS测量硅片表面金属污染的方法，该方法将VPD与ICP-MS相结合。
厂商: 安捷伦
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上传时间: 2012-07-02 23:50:00
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